基板の処理装置及び処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-255777
公開番号（公開出願番号）：特開2009-088227
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：

【課題】この発明は基板のデバイス面を確実に洗浄処理することができるようにした処理装置を提供することにある。【解決手段】基板を処理液によって洗浄処理する処理装置であって、処理液が貯留される処理槽1と、基板16のデバイス面16aを下に向けて保持して上下方向に駆動され下降方向に駆動されたときに上記デバイス面を処理槽の処理液に浸漬させる保持機構17と、処理槽に貯留された処理液に超音波振動を付与する超音波発振器15を具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を処理液によって洗浄処理する処理装置であって、処理液が貯留される処理槽と、上記基板のデバイス面を下に向けて保持して上記処理槽に対し相対的に上下方向に駆動され下降方向に駆動されたときに上記デバイス面を上記処理槽の処理液に浸漬させる保持機構と、上記処理槽に貯留された処理液に超音波振動を付与する超音波付与手段とを具備したことを特徴とする基板の処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/306

FI (4件)：

H01L21/304 642E , H01L21/306 J , H01L21/304 642D , H01L21/304 651A

Fターム (23件)：

5F043BB27 , 5F043EE05 , 5F043EE06 , 5F043EE35 , 5F157AB02 , 5F157AB16 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC03 , 5F157AC23 , 5F157BB04 , 5F157BB73 , 5F157CB13 , 5F157CC02 , 5F157CF02 , 5F157CF04 , 5F157CF06 , 5F157CF64 , 5F157CF74 , 5F157DA21 , 5F157DB37 , 5F157DC86

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板洗浄装置および基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-124708 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (5件)

超音波洗浄方法およびその洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-043859 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-034923
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-327753 出願人：株式会社荏原製作所

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