特許

J-GLOBAL ID：200903079917065560

ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、ノボラック型フェノール樹脂、および、フォトレジスト用フェノール樹脂組成物

発明者： 穴田 亘平 ,  大西 治 ,  西佐古 宏志
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-017014
公開番号（公開出願番号）：特開2006-233197
出願日： 2006年01月26日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：

【課題】 本発明は、未反応フェノール類や2核体成分などの低核体成分の含有量が少ないノボラック型フェノール樹脂を、効率的かつ簡易に製造することができる方法を提供するものである。【解決手段】 (a)フェノール類とアルデヒド類とを縮合反応させる工程と、(c)上記(a)工程後の反応系温度を170〜250°Cに維持しながら、該反応系温度よりも沸点が低い低沸点化合物を添加して、ノボラック型フェノール樹脂の低核体成分を除去する工程とを有することを特徴とする、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(a)フェノール類とアルデヒド類とを縮合反応させる工程と、 (c)前記(a)工程後の反応系温度を170〜250°Cに維持しながら、該反応系温度よりも沸点が低い低沸点化合物を添加して、ノボラック型フェノール樹脂の低核体成分を除去する工程と、 を有することを特徴とする、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法。

IPC (2件)：

C08G 8/00 ,  G03F 7/023

FI (2件)：

C08G8/00 F ,  G03F7/023 511

Fターム (17件)：

2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB29 ,  4J033CA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA03 ,  4J033CA11 ,  4J033CA12 ,  4J033CA13 ,  4J033CD05 ,  4J033CD06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 高温蒸留しないノボラック樹脂の単離およびそれから得られるフォトレジスト組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-527309   出願人：クラリアント・インターナショナル・リミテッド
• ノボラック型フェノール樹脂の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-053265   出願人：住友デュレズ株式会社

審査官引用 (3件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096352   出願人：クラリアントジャパン株式会社
• 特開昭60-133017
  
• フォトレジスト用フェノール樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-253406   出願人：住友デュレズ株式会社