特許
J-GLOBAL ID:200903080063048886
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-006013
公開番号(公開出願番号):特開2007-187887
出願日: 2006年01月13日
公開日(公表日): 2007年07月26日
要約:
【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有する樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有し、前記樹脂成分(A)中の前記樹脂(A1)の含有量が0.1〜50質量%の範囲内であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有する樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有し、
前記樹脂成分(A)中の前記樹脂(A1)の含有量が、0.1〜50質量%の範囲内であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039
, H01L 21/027
, G03F 7/004
, C08F 220/22
FI (4件):
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, G03F7/004 501
, C08F220/22
Fターム (30件):
2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BB11P
, 4J100BB11Q
, 4J100BB11R
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100BD10P
, 4J100BD10Q
, 4J100BD10R
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
引用特許: