特許
J-GLOBAL ID:200903080148144396

窒化炭素の製造方法並びに窒化炭素

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-159308
公開番号(公開出願番号):特開平10-008257
出願日: 1996年06月20日
公開日(公表日): 1998年01月13日
要約:
【要約】【課題】比較的小さなエネルギーで理想組成に近い組成を有する窒化炭素を生成する製造方法を提供する【解決手段】炭素源となる物質と窒素源となる物質をチャンバー内に導入し、炭素源となる物質の炭素の結合を励起する光を照射する光CVD法により窒化炭素を生成する。光源としてはレーザー光を使用することが好ましい。
請求項(抜粋):
炭素源となる物質と窒素源となる物質をチャンバー内に導入し、前記チャンンバー内にて前記炭素源となる物質と前記窒素源となる物質に対して、前記炭素源となる物質の炭素の関与する結合の1個以上を励起する光を照射する光CVD法により窒化炭素を生成する窒化炭素の製造方法。
IPC (2件):
C23C 16/48 ,  C23C 16/34
FI (2件):
C23C 16/48 ,  C23C 16/34
引用特許:
審査官引用 (4件)
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