特許
J-GLOBAL ID:200903080289181414

検出方法、露光方法、検出装置、露光装置、並びにデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-345185
公開番号(公開出願番号):特開2005-116581
出願日: 2003年10月03日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】被検面の領域のデフォーカス量を精度良く検出する。【解決手段】ステップ607において、反射率が均一な面の像強度分布データ列関数G(N)と、反射率が均一でない面の像強度分布データ列関数F(N)から、検出対象の反射率データ列関数H(N)を推定する。そして、ステップ613において、その推定結果が収束してきたら、反射率データ列関数H(N)の推定を終了し、ステップ617において、反射率データ列関数H(N)に基づいて被検面の領域のデフォーカス量を算出する。【選択図】図12
請求項(抜粋):
物体の被検面を、検出光学系を介して検出する検出方法であって、 前記検出光学系のガウス像面上に前記物体の被検面の一部の領域を位置させる第1工程と; 前記第1工程を行った後に、前記検出光学系に対する前記領域のフォーカス状態を計測する第2工程と; 前記第2工程の計測結果に基づいて、前記検出光学系に対する前記領域の合焦位置を決定する第3工程と;を含む検出方法。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  G01B11/24 ,  G02B7/28 ,  G03F9/02
FI (5件):
H01L21/30 525W ,  G03F9/02 H ,  G01B11/24 F ,  H01L21/30 525R ,  G02B7/11 M
Fターム (47件):
2F065AA03 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC20 ,  2F065DD03 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065GG02 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL20 ,  2F065LL22 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL59 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ25 ,  2F065UU05 ,  2F065UU09 ,  2H051AA10 ,  2H051BB10 ,  2H051CB01 ,  2H051CB11 ,  2H051CB20 ,  2H051CC04 ,  2H051CE27 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EC03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA03 ,  5F046FA11 ,  5F046FA18 ,  5F046FB06 ,  5F046FB08 ,  5F046FB09 ,  5F046FB10 ,  5F046FB12 ,  5F046FC04
引用特許:
出願人引用 (4件)
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