特許
J-GLOBAL ID:200903080317845382

半導体発光素子および製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-078538
公開番号(公開出願番号):特開2002-280606
出願日: 2001年03月19日
公開日(公表日): 2002年09月27日
要約:
【要約】【課題】 発光強度が高く、表面欠陥の少ない構造を有するLED素子およびその製法。【解決手段】 GaAsを基板とし、その上にGaAsと格子整合するAlGaInP系の材料からなる下部クラッド層、活性層および上部クラッド層が形成され、さらにGaAsとは格子整合しないAlGaInP系の中間バンドギャップ層および2層以上の電流拡散層が形成され、ここに、該活性層に最も近い電流拡散層のキャリア濃度が1〜3×1018cm-3であって、該活性層から最も遠い電流拡散層のキャリア濃度が1〜2×1019cm-3である半導体発光素子。
請求項(抜粋):
GaAsを基板とし、その上にGaAsと格子整合するAlGaInP系の材料からなる下部クラッド層、活性層および上部クラッド層が形成され、さらにGaAsとは格子整合しないAlGaInP系の中間バンドギャップ層および2層以上の電流拡散層が形成され、ここに、該活性層に最も近い電流拡散層のキャリア濃度が1〜3×1018cm-3であって、該活性層から最も遠い電流拡散層のキャリア濃度が1〜2×1019cm-3である半導体発光素子。
IPC (2件):
H01L 33/00 ,  H01L 21/205
FI (2件):
H01L 33/00 B ,  H01L 21/205
Fターム (21件):
5F041AA04 ,  5F041AA21 ,  5F041CA04 ,  5F041CA34 ,  5F041CA35 ,  5F041CA53 ,  5F041CA57 ,  5F041CA65 ,  5F041FF01 ,  5F045AA04 ,  5F045AB18 ,  5F045AD11 ,  5F045AF04 ,  5F045BB11 ,  5F045BB12 ,  5F045CA09 ,  5F045CA10 ,  5F045DA52 ,  5F045DA53 ,  5F045DA59 ,  5F045DA63
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 半導体発光素子の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-015503   出願人:シャープ株式会社
  • 半導体発光素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-030819   出願人:三菱電線工業株式会社
  • 半導体発光素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-061420   出願人:三菱電線工業株式会社

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