特許
J-GLOBAL ID:200903080317845382
半導体発光素子および製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-078538
公開番号(公開出願番号):特開2002-280606
出願日: 2001年03月19日
公開日(公表日): 2002年09月27日
要約:
【要約】【課題】 発光強度が高く、表面欠陥の少ない構造を有するLED素子およびその製法。【解決手段】 GaAsを基板とし、その上にGaAsと格子整合するAlGaInP系の材料からなる下部クラッド層、活性層および上部クラッド層が形成され、さらにGaAsとは格子整合しないAlGaInP系の中間バンドギャップ層および2層以上の電流拡散層が形成され、ここに、該活性層に最も近い電流拡散層のキャリア濃度が1〜3×1018cm-3であって、該活性層から最も遠い電流拡散層のキャリア濃度が1〜2×1019cm-3である半導体発光素子。
請求項(抜粋):
GaAsを基板とし、その上にGaAsと格子整合するAlGaInP系の材料からなる下部クラッド層、活性層および上部クラッド層が形成され、さらにGaAsとは格子整合しないAlGaInP系の中間バンドギャップ層および2層以上の電流拡散層が形成され、ここに、該活性層に最も近い電流拡散層のキャリア濃度が1〜3×1018cm-3であって、該活性層から最も遠い電流拡散層のキャリア濃度が1〜2×1019cm-3である半導体発光素子。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 33/00 B
, H01L 21/205
Fターム (21件):
5F041AA04
, 5F041AA21
, 5F041CA04
, 5F041CA34
, 5F041CA35
, 5F041CA53
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F041FF01
, 5F045AA04
, 5F045AB18
, 5F045AD11
, 5F045AF04
, 5F045BB11
, 5F045BB12
, 5F045CA09
, 5F045CA10
, 5F045DA52
, 5F045DA53
, 5F045DA59
, 5F045DA63
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体発光素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-015503
出願人:シャープ株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-030819
出願人:三菱電線工業株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-061420
出願人:三菱電線工業株式会社
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