特許
J-GLOBAL ID：200903080466354820

基板の周辺部露光方法及びその装置

発明者：
笹田 滋

笹田 滋 について

, 
小野 和也

小野 和也 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091184
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 基板径の差異を吸収することにより、基板径が異なっても未露光領域の径を一定にすることができる。【解決手段】 塗布被膜が被着された処理対象の基板Wを回転させつつ露光ビーム照射部7により露光する基板の周辺部露光装置において、基板Wを回転させるスピンチャック1と、基板Wを回転させて得られる周辺部の位置データを検出する周辺位置検出部17と、位置データに基づいて寸法既知の基準基板の半径と基板Wの半径との差分を求める差分算出部31と、位置データと予め設定されている周辺部露光幅とに基づいて基板Wの周辺部を露光する際に、差分だけ周辺部露光幅を調節して基板Wと露光ビーム照射部7とを相対移動させる制御部25とを備えた。
請求項（抜粋）：
塗布被膜が被着された基板を回転させつつ前記基板の周辺部を露光する基板の周辺部露光方法において、処理対象の基板を回転させて得られる周辺部の位置データに基づいて寸法既知の基準基板の半径と前記処理対象の基板の半径との差分を求める過程と、前記位置データと予め設定されている周辺部露光幅とに基づいて前記処理対象の基板の周辺部を露光する際に、前記差分だけ前記周辺部露光幅を調節して露光する過程と、からなることを特徴とする基板の周辺部露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/30 577 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 F
Fターム (14件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA59 ,  5F031JA03 ,  5F031JA05 ,  5F031KA08 ,  5F031MA27 ,  5F046BA07 ,  5F046CB20 ,  5F046CC06 ,  5F046CC13 ,  5F046DA07 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板周縁露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-340551   出願人：株式会社ニコン
  • 基板の周縁露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-060419   出願人：株式会社ニコン
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-208363   出願人：キヤノン株式会社

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