基板上に補強膜を形成するための方法と装置および太陽電池

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：深見久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-032769
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234490
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】薄くて割れやすい基板の取り扱い中の割れを低減させ、その基板を利用する製品の信頼性を低下させることなく製造コストを低減させる。【解決手段】本発明の一つの態様では、基板(1)上の所定領域に補強膜を形成する方法は、その所定領域の外側に第1の液状物質で第1の膜(2)を形成し、基板(1)に対しては濡れ性がよくかつ第1の膜(2)に対しては濡れ性が悪い第2の液状物質で補強膜となる第2の膜(3)を第1の膜(2)の内側の領域に形成する工程を含んでいる。本発明の他の態様では、基板上の所定領域に補強膜を形成する方法は、その所定領域に第3の液状物質で第3の膜を形成し、基板に対しては濡れ性が悪くかつ第3の膜に対しては濡れ性がよい第4の液状物質で補強膜となる第4の膜を第3の膜の全領域上に形成する工程を含んでいる。

請求項（抜粋）：

基板上の所定領域に補強膜を形成する方法であって、前記所定領域の外側に第1の液状物質で第1の膜を形成する工程と、前記基板に対しては濡れ性がよくかつ前記第1の膜に対しては濡れ性が悪い第2の液状物質で補強膜となる第2の膜を前記第1の膜の内側の前記所定領域に形成する工程とを含むことを特徴とする補強膜形成方法。

IPC (7件)：

H01L 31/04 , B05C 1/02 101 , B05D 1/26 , B05D 1/36 , B05D 3/06 102 , B05D 7/00 , H01M 14/00

FI (7件)：

B05C 1/02 101 , B05D 1/26 A , B05D 1/36 Z , B05D 3/06 102 , B05D 7/00 H , H01M 14/00 P , H01L 31/04 H

Fターム (38件)：

4D075AC45 , 4D075AC92 , 4D075AE02 , 4D075AE04 , 4D075AE17 , 4D075BB26Z , 4D075BB92Z , 4D075CA35 , 4D075DA06 , 4D075DB11 , 4D075DC21 , 4D075DC22 , 4D075EA07 , 4D075EA21 , 4D075EA33 , 4F040AA02 , 4F040AA12 , 4F040AB04 , 4F040AC01 , 4F040AC04 , 4F040AC06 , 4F040BA01 , 5F051AA02 , 5F051AA03 , 5F051BA11 , 5F051CB13 , 5F051CB30 , 5F051FA14 , 5F051FA16 , 5H032AA06 , 5H032AS06 , 5H032AS09 , 5H032AS16 , 5H032BB05 , 5H032BB07 , 5H032BB10 , 5H032EE04 , 5H032HH04

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板への塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-196936 出願人：大日本印刷株式会社
レジスト塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-057206 出願人：カシオ計算機株式会社
塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-079300 出願人：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社

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