特許

J-GLOBAL ID：200903080543920079

縦型熱処理装置

発明者： 島津 知久 ,  本間 学
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小林 哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095933
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299334
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】 支柱をガタなく支持するようにし、かつ保持部材の熱膨張による支柱との摺動を最少限に抑えて摺動による破損を回避すると共に、支柱を芯出し調整して、常に、高精度な垂直度を保持させること。【解決手段】 処理容器1内に処理ガスを導入してウエハボート10に収納した半導体ウエハWを熱処理する縦型熱処理装置において、ウエハボート10を支持する支柱11を保持体15で保持させ、この支柱11と保持体15との間にテーパクサビ20を介在させる。このテーパクサビ20の上面20dで支柱11の環状段部面12を支受けし、テーパクサビ20の下面20eに形成したリング状のテーパ面は、保持体15のテーパ面16に当接させて石英製支柱11と金属製保持体15との間に金属製テーパクサビ20を介在させた縦型熱処理装置である。

請求項（抜粋）：

処理容器内に処理ガスを導入して被処理体ボートに収納した被処理体を熱処理する縦型熱処理装置において、被処理体ボートを支持する支柱を保持体で保持させ、この支柱と保持体との間にテーパクサビを介在させたことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/00 301 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/22

FI (6件)：

H01L 21/31 E ,  H01L 21/31 B ,  B01J 19/00 301 Z ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/22 511 B ,  H01L 21/22 511 G

Fターム (25件)：

4G075AA22 ,  4G075BA06 ,  4G075BC04 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC30 ,  4G075EE01 ,  4G075EE02 ,  4G075EE21 ,  4G075EE40 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030GA02 ,  4K030GA13 ,  4K030KA04 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045BB20 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EM01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• オゾンガス散気装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-116655   出願人：株式会社東芝
• 縦型反応炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115379   出願人：国際電気株式会社
• 縦型熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-347784   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社, 株式会社東芝
• 縦型熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-140730   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭61-097192