特許

J-GLOBAL ID：200903080549480348

有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法

発明者： 大家 利彦 ,  矢野 哲夫 ,  米田 理史 ,  勝村 宗英 ,  梶谷 孝啓 ,  田中 治 ,  丹下 善弘 ,  松田 ▲ひで▼明
出願人/特許権者： 大倉工業株式会社 ,  工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院四国工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138359
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335817
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【目的】大がかりな装置を用いることなく、有機光学機能材料の化学構造を実質的に維持した非晶質の薄膜を基板上に形成する方法を提供すること。【構成】光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度E(mJ/cm2)が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法。C×1.5≦E≦C×4(但し、C:基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度(mJ/cm2))

請求項（抜粋）：

光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度E(mJ/cm2)が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法。C×1.5≦E≦C×4(但し、C:基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度(mJ/cm2))

IPC (2件)：

C23C 14/12 ,  C23C 14/28

FI (2件)：

C23C 14/12 ,  C23C 14/28

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 紫外光レーザーによる有機薄膜の製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-091947   出願人：川崎重工業株式会社
• 分子配向膜の製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-331095   出願人：川崎重工業株式会社
• 混合固体を原料とする薄膜・粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-131205   出願人：川崎重工業株式会社
• 特開昭60-086266