特許
J-GLOBAL ID:200903080702703670
クリーンルーム設備及びクリーンルームの室圧制御方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-331538
公開番号(公開出願番号):特開2006-125812
出願日: 2004年11月16日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】半導体集積回路の加工寸法の変動を抑制するために、現実的なクリーンルーム設備及びクリーンルームの室圧制御方法を提供する。【解決手段】クリーンルームの床下部15A、15B、周壁部16A、16B、天井部17A、17Bを通して空気を循環させる一連の循環径路を形成し、外調機18により所要量の外気を取り入れて外気負荷を処理してクリーンルームの室内10A、10Bに供給する構成のクリーンルーム設備において、クリーンルームの室内10A、10Bは間仕切りによって複数の空間に区画され、複数の空間のうちの一の空間10Aに設置された気圧センサ21と、気圧センサ21からの出力信号により一の空間の絶対気圧を所定の値の範囲内に制御する手段20A、22を有するクリーンルーム設備とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
クリーンルームの少なくとも周壁部、天井部を通して空気を循環させる一連の循環径路を形成し、外調機により所要量の外気を取り入れて外気負荷を処理して前記クリーンルームの室内に供給する構成のクリーンルーム設備において、
前記クリーンルームの室内は間仕切りによって複数の空間に区画され、
前記複数の空間のうちの一の空間に設置された気圧センサと、
前記気圧センサからの出力信号により前記一の空間の絶対気圧を所定の値の範囲内に制御する手段を有することを特徴とするクリーンルーム設備。
IPC (4件):
F24F 11/02
, F24F 3/02
, F24F 7/06
, H01L 21/02
FI (4件):
F24F11/02 102J
, F24F3/02
, F24F7/06 C
, H01L21/02 D
Fターム (7件):
3L058BE02
, 3L058BF01
, 3L058BG04
, 3L060AA08
, 3L060CC09
, 3L060CC14
, 3L060EE27
引用特許:
出願人引用 (1件)
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塗膜の形成方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-114016
出願人:株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社
審査官引用 (4件)
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クリーンルーム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-249529
出願人:三菱電機株式会社
-
特開平1-234736
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空調設備
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-061428
出願人:ダイキンプラント株式会社
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室圧制御システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-261562
出願人:株式会社大氣社
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