特許
J-GLOBAL ID:200903080703392295
レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-298174
公開番号(公開出願番号):特開2001-119101
出願日: 1999年10月20日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】 比較的安価で且つ一般的な構成部品を使用可能であるとともに、レーザ発振源から外部への一層良好な伝送効率を実現し得るレーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザから出射される異方性を備えたレーザ光を所定の光学系により集光した上で、光ファイバの一端側へ入射させる。光ファイバを介して伝送されるレーザ光は等方性を有するように変換される。上記光ファイバとしては、屈折率分布型の光ファイバを用いる。
請求項(抜粋):
複数のエミッタを備えた半導体レーザと、上記半導体レーザから出射されたレーザ光を集光する光学系と、上記光学系により集光されたレーザ光を一端側で受光し外部へ伝送する光ファイバとを有していることを特徴とするレーザ装置。
IPC (4件):
H01S 5/22 610
, B23K 26/08
, G02B 6/42
, H01S 5/022
FI (4件):
H01S 5/22 610
, B23K 26/08 K
, G02B 6/42
, H01S 5/022
Fターム (14件):
2H037AA04
, 2H037BA04
, 2H037CA16
, 2H037CA17
, 2H037DA03
, 2H037DA04
, 2H037DA05
, 4E068CE08
, 4E068CK01
, 5F073AB04
, 5F073AB27
, 5F073AB28
, 5F073BA09
, 5F073EA24
引用特許: