特許
J-GLOBAL ID：200903080711513719

ガスハイドレート生成装置

発明者：
権田 哲夫

権田 哲夫 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル資源開発株式会社

三菱マテリアル資源開発株式会社 について


代理人 (1件)： 千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-081142
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273205
出願日： 2001年03月21日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：
【要約】【課題】 ガスハイドレートを安定に効率よく生成する装置を提供する。【解決手段】 ガスが溶解した水溶液が溜まる滞留室、溶解させるガスを滞留室に送り込むガス導入路、上記滞留室に通じるガス水溶液の循環路、ガス水溶液の冷却手段および循環手段とを有し、好ましくは、ガス導入路から滞留室に至る間に、内部が多孔質に形成された混合室が設けられており、ガス水溶液を循環しながらガスハイドレートの生成を促すガスハイドレート生成装置。
請求項（抜粋）：
ガスが溶解した水溶液が溜まる滞留室、溶解させるガスを滞留室に送り込むガス導入路、上記滞留室に通じるガス水溶液の循環路、ガス水溶液の冷却手段および循環手段とを有し、ガス水溶液を循環しながら冷却してガスハイドレートの生成を促すことを特徴とするガスハイドレート生成装置。
IPC (2件)：
B01J 19/00 ZAB ,  C01B 31/20
FI (2件)：
B01J 19/00 ZAB A ,  C01B 31/20 Z
Fターム (11件)：
4G046JB01 ,  4G075AA04 ,  4G075AA37 ,  4G075BB03 ,  4G075BB10 ,  4G075BD10 ,  4G075DA01 ,  4G075EA05 ,  4G075EE05 ,  4G075FA14 ,  4G075FB06
引用特許：
審査官引用 (6件)
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