特許
J-GLOBAL ID：200903080714162437
露光方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-412116
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207709
出願日： 2003年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】 偏光の影響による結像性能の劣化を防止して所定のコントラストを確保し、所望のパターンを形成することができる液浸型の露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 被露光体の表面及び投影光学系の最終面を液体に浸漬し、マスクに形成されたパターンを前記投影光学系により前記被露光体上に投影する露光方法において、 前記投影光学系の瞳に形成される有効光源のうちの前記パターンの繰り返し方向に平行で且つ前記投影光学系の光軸に直交する軸上の部分から発して前記レジストに斜入射する光の前記被露光体への入射角をθ、該入射角θの最大値をθNAとした時に、90°-θNA≦θ≦θNAを満足する入射角θの範囲に対応する光がS偏光成分のみを有することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被露光体の表面及び投影光学系の最終面を液体に浸漬し、マスクに形成されたパターンを前記投影光学系により前記被露光体上に投影する露光方法において、
前記投影光学系の瞳に形成される有効光源のうちの前記パターンの繰り返し方向に平行で且つ前記投影光学系の光軸に直交する軸上の部分から発して前記レジストに斜入射する光の前記被露光体への入射角をθ、該入射角θの最大値をθNAとした時に、90°-θNA≦θ≦θNAを満足する入射角θの範囲に対応する光がS偏光成分のみを有することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516C
, G03F7/20 521
, H01L21/30 514C
5F046BA04
, 5F046CB25
, 5F046DA07
, 5F046DB01
出願人引用 (2件)
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液浸型露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-121757
出願人：株式会社ニコン
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米国特許第4346164号明細書
審査官引用 (2件)
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