欠陥検査方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-089630
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294358
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】検査時の画像取得パラメータや検査パラメータなどの検査条件の設定は労力が多大であり、時間もかかるため、装置稼働率を低下させる一因ともなっており、これを軽減する必要がある。【解決手段】設定条件毎に画像を取得し、操作画面上に画像の一覧表示、並びに評価指標一覧表示を行うことにより、最適な検査条件選択を支援する。また、事前に最適条件設定に用いる評価指標を選定することにより、自動条件設定も可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたパターンの欠陥を検査する方法であって、画像取得条件パラメータと検査条件パラメータとを変えて基板を撮像して複数の画像を取得し、該画像取得条件パラメータと検査条件パラメータとを変えて取得した前記基板の複数の画像を該複数の画像をそれぞれ評価する指標と共に画面上に表示し、該複数の画像とそれぞれの評価指標とが表示された画面上で検査条件を設定し、該設定した検査条件に基づいて基板上に形成されたパターンの欠陥を順次検査することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N21/956 , G06T1/00 , H01L21/66

FI (3件)：

G01N21/956 A , G06T1/00 305A , H01L21/66 J

Fターム (34件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA16 , 2G051ED04 , 2G051ED08 , 2G051ED11 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106AA10 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB04 , 4M106DJ17 , 4M106DJ20 , 4M106DJ27 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CE02 , 5B057CE06 , 5B057CE12 , 5B057DA03 , 5B057DA16 , 5B057DB02 , 5B057DC19

引用特許：

審査官引用 (8件)

欠陥検査方法及び欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-104153 出願人：株式会社日立製作所
電子部品の照明設定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-135974 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭58-070540

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