特許

J-GLOBAL ID：200903081027430290

放射システム及びリソグラフィ装置

発明者： マールテン マリヌス ヨハネス ウィルヘルムス ファン ヘルペン ,  ファディム イェフゲンイェフィチ バニーネ ,  アーノウド コーネリス ヴァッシンク ,  デルク ヤン ヴィルフレッド クルンデル
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-139772
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332654
出願日： 2006年05月19日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】放射システム及びリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置における放射の投影ビームを提供するための放射システムが開示される。放射システムは、EUV放射を提供するためのEUV源と、EUV源から放出される汚染物質を捕捉するための複数の銀膜プレートを備えた汚染障壁とを備えている。銀膜プレートは、光学的に閉じた構造で配置されており、汚染障壁を通過するEUV放射は、複数の銀膜プレートのうちの少なくとも1つで、少なくとも一度反射する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置における放射の投影ビームを提供するための放射システムであって、 EUV放射を提供するためのEUV源と、 前記EUV源から放出される汚染物質を捕捉するための複数の銀膜プレートを備えた汚染障壁とを備え、 前記銀膜プレートが光学的に閉じた構造で配置され、それにより前記汚染障壁を通過するEUV放射が前記複数の銀膜プレートのうちの少なくとも1つで、少なくとも一度反射する放射システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521

Fターム (6件)：

5F046AA22 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA09 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマフォーカス高エネルギフォトン源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-118725   出願人：サイマーインコーポレイテッド
• 波長が193nm以下の照明光学系のための集光器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-013558   出願人：カールツァイスセミコンダクターマニュファクチャリングテクノロジーズアーゲー
• リソグラフィ機器で使用するミラー上での上部層の使用、リソグラフィ機器で使用するミラー、このようなミラーを備えるリソグラフィ機器、及びデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-304405   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• X線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-305201   出願人：株式会社ニコン