特許
J-GLOBAL ID：200903000844800709
リソグラフィ機器で使用するミラー上での上部層の使用、リソグラフィ機器で使用するミラー、このようなミラーを備えるリソグラフィ機器、及びデバイスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-304405
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129936
出願日： 2004年10月19日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】リソグラフィ機器で使用するミラー上での所定の金属の上部層8の使用、リソグラフィ機器で使用するミラー、及びこのようなミラー又はリソグラフィ機器で使用する上部層を備えたミラーを有するリソグラフィ機器を提供すること。【解決手段】この機器は、例えばEUVなどの所望の波長の放射を提供する放射源SOを有する。この放射源SOは、望ましくない金属粒子流を生成し、これらの金属粒子がミラー上に被着して、比較的小さい核及び比較的大きい核が形成される。上部層8は、所定の温度範囲で金属被着物の核と相互拡散し得る。そのため、これらの金属粒子と上部層8の金属の追加の合金層14が形成される。この追加の合金層は、金属粒子だけを含む層よりも反射率が高い。【選択図】図4c
請求項（抜粋）：
所望の波長の放射を提供する放射源(SO)を備えるリソグラフィ機器において、動作中の前記放射源により生成される望ましくない金属粒子流によってミラー上に形成される金属被着物を減少させるための、前記リソグラフィ機器で使用するミラー上での所定の金属の上部層(8)の使用であって、前記所定の金属が、前記リソグラフィ機器が動作しているときに、前記所定の金属と前記金属被着物が所定の温度範囲で相互拡散するように選択される、ミラー上での所定の金属の上部層(8)の使用。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G02B5/08
, G21K1/06
, G21K5/00
H01L21/30 531A
, G02B5/08 A
, G21K1/06 C
, G21K1/06 P
, G21K5/00 Z
2H042DA01
, 2H042DA10
, 2H042DA16
, 2H042DE00
, 5F046AA28
, 5F046BA05
, 5F046DA26
, 5F046DA27
, 5F046GA07
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GC03
