特許
J-GLOBAL ID:200903081130506050
口腔用組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 祐司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-328329
公開番号(公開出願番号):特開2005-089420
出願日: 2003年09月19日
公開日(公表日): 2005年04月07日
要約:
【課題】口腔粘膜及び歯茎に対して刺激性が低く、使用後に口腔内のぬめり感や味覚変化を生じさせない口腔用組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体0.01〜10質量%と、陰イオン性界面活性剤0.1〜20質量%とを含む口腔用組成物。【化1】(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基であり、ブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。m及びnはそれぞれAO、EOの平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70、AOとEOの合計に対するEOの割合は20〜80質量%、R1,R2は、同一もしくは異なってもよく、炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合は0.15以下である。)
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体0.01〜10質量%と、陰イオン性界面活性剤0.1〜20質量%と含むことを特徴とする口腔用組成物。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (24件):
4C083AB172
, 4C083AB322
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC231
, 4C083AC232
, 4C083AC302
, 4C083AC641
, 4C083AC642
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AC862
, 4C083AD041
, 4C083AD042
, 4C083AD051
, 4C083AD052
, 4C083AD272
, 4C083AD352
, 4C083BB05
, 4C083BB07
, 4C083CC41
, 4C083EE06
引用特許:
出願人引用 (1件)
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練歯磨剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-179555
出願人:ライオン株式会社
審査官引用 (9件)
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口腔用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-205798
出願人:日本ゼトック株式会社
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特開平1-287015
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歯磨剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-141309
出願人:大塚昌助
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泡状口腔用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-311283
出願人:ライオン株式会社
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皮膚外用剤用基剤及びそれを配合してなる化粧品
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-304030
出願人:株式会社資生堂, 日本油脂株式会社
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パック化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-017451
出願人:株式会社資生堂
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メーキャップ化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-352343
出願人:株式会社資生堂
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頭髪洗浄料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-356398
出願人:株式会社資生堂
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塗布剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-351821
出願人:出光テクノファイン株式会社, 有限会社エヌ・イッシュ
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