特許
J-GLOBAL ID：200903081161252080

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
倉田 康弘

倉田 康弘 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-294830
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110625
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】複数の処理ユニットでほぼ同質の処理を基板に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】処理ユニット3Lにおいて、スピンチャック31Lは、ウエハWを図中反時計回りに回転させ、ノズル32Lは、スピンチャック31Lによって回転されるウエハWの表面上の回転中心C1から外れた所定の処理液供給位置P1に、その処理液供給位置P1を通るウエハWの半径に平面視において交差する方向から処理液を供給する。一方、処理ユニット3Rのスピンチャック31Rは、処理ユニット3LにおけるウエハWの回転方向とは反対方向にウエハWを回転させる。そして、ノズル32Rは、隔壁34に関して処理ユニット3Lのノズル32Lとほぼ対称な位置に配置されており、隔壁34に関してノズル32Lからの処理液供給位置P1とほぼ対称な位置P2に向けて処理液を供給する。
請求項（抜粋）：
基板に処理液を用いた処理を施すための第1および第2の処理ユニットを備えた基板処理装置であって、上記第1の処理ユニットは、基板をほぼ水平な面内で一定方向に回転させる第1の基板回転手段と、この第1の基板回転手段によって回転される基板の表面上の回転中心から外れた所定の処理液供給位置に、その処理液供給位置を通る基板半径に平面視において交差する所定の処理液供給方向から処理液を供給する第1のノズルとを有し、上記第2の処理ユニットは、基板をほぼ水平な面内で上記一定方向とは反対方向に回転させる第2の基板回転手段と、上記第1の処理ユニットにおける基板の回転中心と上記第2の基板回転手段によって回転される基板の回転中心とを結ぶ線分の垂直二等分線に関して上記処理液供給位置とほぼ対称な位置に、上記垂直二等分線に関して上記所定の処理液供給方向とは対称な方向から処理液を供給する第2のノズルとを有していることを特徴とする基板処理装置。
IPC (8件)：
H01L 21/306 ,  B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643
FI (9件)：
B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 C ,  B05D 7/00 H ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/306 R ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (18件)：
4D075AC64 ,  4D075AC73 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4F042AA07 ,  4F042DF25 ,  4F042EB17 ,  5F043AA01 ,  5F043AA40 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043GG10 ,  5F046JA02 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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