特許
J-GLOBAL ID:200903081357454927

ウェハ保持装置およびその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-213082
公開番号(公開出願番号):特開2000-049145
出願日: 1998年07月28日
公開日(公表日): 2000年02月18日
要約:
【要約】【課題】ウェハ11を保持するウェハ保持装置およびその方法において、正電荷をもつゴミの付着を抑制し強い吸着力でウェハ11を保持する。【解決手段】内部電極2が埋設された絶縁体部材1と、内部電極2に正の直流電圧を印可する可変直流電源6とを設け、ウェハ11を絶縁体部材1に載置したとき、例えば、300V程度のプラス電圧を内部電極2に印加する。
請求項(抜粋):
導電性材料で製作されるとともに内部に埋設される温度調節用のヒ-タと冷却ガスが循環するマニホ-ルドとを有する下部電極と、この下部電極の上に取り付けられ半導体基板の載置面を有するとともに内部電極が埋設された絶縁体部材と、前記内部電極に正の電圧を印加する可変直流電源と、前記絶縁体部材から突出し前記半導体基板を突き上げるノックピンとを備えることを特徴とするウェハ保持装置。
IPC (4件):
H01L 21/3065 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/68 ,  H02N 13/00
FI (4件):
H01L 21/302 B ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D
Fターム (20件):
3C016GA10 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BB29 ,  5F004CA03 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA07 ,  5F031HA17 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031MA32 ,  5F031NA04 ,  5F031NA16 ,  5F031PA26
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 静電チャック
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-089311   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 真空処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-166186   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 静電吸着電極
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-150656   出願人:株式会社日立製作所
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