特許
J-GLOBAL ID：200903081403599951

化学増幅系ポジ型レジスト

発明者：
井谷 俊郎

井谷 俊郎 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 宮越 典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082887
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275839
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】【課題】 溶解コントラストを大きくすることにより、解像性を向上させ、かつドライエッチング耐性を向上できる化学増幅系レジストを得る。【解決手段】 脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含む、ArFエキシマレーザー用の化学増幅系ポジ型レジストに対して、添加剤として、ヘキサメトキシメチルメラミン誘導体を混合した。好ましくは、ヘキサメトキシメチルメラミン誘導体の添加量をベース樹脂100重量部に対し1〜10重量部とする。
請求項（抜粋）：
脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含む化学増幅系ポジ型レジストにおいて、ヘキサメトキシメチルメラミン誘導体を混合することを特徴とする化学増幅系ポジ型レジスト。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (17件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17
引用特許：
審査官引用 (6件)
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