特許
J-GLOBAL ID:200903081435625725
周期性パターンの検査方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
高矢 諭
, 松山 圭佑
, 牧野 剛博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-283790
公開番号(公開出願番号):特開2004-117290
出願日: 2002年09月27日
公開日(公表日): 2004年04月15日
要約:
【課題】周期性パターンの不均一性を迅速且つ高精度に検査可能にする。【解決手段】周期性パターンを有する対象物Wをエリアセンサカメラで撮像し、得られた画像を基に周期性パターンの不均一性に起因する色ムラ欠陥を検査する際、第1エリアセンサカメラ16Aの光学系を、前記対象物の表面で目標寸法にピントが合う第1フォーカスに設定して、該カメラにより第1製品画像を撮像し、第2エリアセンサカメラ16Bの光学系を、第1フォーカスより短い第2フォーカスに設定して、同カメラにより第2製品画像を撮像し、前記第1製品画像から前記第2製品画像を減算して強調画像を作成し、該強調画像に基づいて前記目標寸法に対応する大きさの色ムラ欠陥を検出する。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
周期性パターンを有する対象物をエリアセンサカメラで撮像し、得られた画像を基に周期性パターンの不均一性に起因する色ムラ欠陥を検査する周期性パターンの検査方法において、
第1エリアセンサカメラの光学系を、前記対象物の表面で目標寸法にピントが合う第1フォーカスに設定して、該カメラにより第1製品画像を撮像し、
第2エリアセンサカメラの光学系を、第1フォーカスより短い第2フォーカスに設定して、同カメラにより第2製品画像を撮像し、
第1製品画像から前記第2製品画像を減算して強調画像を作成し、
該強調画像に基づいて前記目標寸法に対応する大きさの色ムラ欠陥を検出することを特徴とする周期性パターンの検査方法。
IPC (6件):
G01N21/956
, G01M11/00
, G02F1/13
, G06T1/00
, G06T5/00
, H01J9/42
FI (6件):
G01N21/956 Z
, G01M11/00 T
, G02F1/13 101
, G06T1/00 300
, G06T5/00 200Z
, H01J9/42 A
Fターム (25件):
2G051AA90
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CB02
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EC05
, 2G051ED01
, 2G086EE05
, 2G086EE10
, 2H088FA11
, 2H088FA12
, 2H088HA12
, 2H088MA04
, 5B057AA20
, 5B057BA17
, 5B057CA12
, 5B057CB12
, 5B057CE03
, 5B057CH01
, 5B057CH11
, 5B057DA03
, 5B057DA16
, 5C012AA02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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周期性パターンの検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-289452
出願人:大日本印刷株式会社
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欠陥・異物検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-362337
出願人:シャープ株式会社
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特開平2-247510
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特開平2-247510
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特開平3-209153
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異物検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-177390
出願人:株式会社ニコン
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