高純度流体を供給する方法及びシステム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-565647
公開番号（公開出願番号）：特表2006-512200
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：

流体装置は、第1の分岐路及び第2の分岐路を有するマニホールドと、該マニホールドの前記第1の分岐路に結合された第1のチェックバルブと、第1の端部及び第2の端部を有する精製ユニットとを備え、前記第1の端部が、前記マニホールドの前記第2の分岐路に結合されている。また、流体精製装置は、精製材料を収容する第1の内部区画室と、不純物を含む流体を収容する第2の内部区画室とを有する容器を備え、前記第1の内部区画室は、流体透過性支持体及び破裂可能なシールによって前記第2の内部区画室から分離されている。

請求項（抜粋）：

第1の内部区画室及び第2の内部区画室を有している容器を備えている流体精製装置であって、前記第1の内部区画室は流体透過性支持体によって前記第2の内部区画室から分離され、前記第1の内部区画室は精製材料を収容可能とされており、前記第2の内部区画室は不純物を含む流体を収容可能とされていることを特徴とする流体精製装置。

IPC (2件)：

B01D 53/04 , B01D 53/02

FI (2件)：

B01D53/04 C , B01D53/02 Z

Fターム (27件)：

4D012BA01 , 4D012BA02 , 4D012BA03 , 4D012CA20 , 4D012CB06 , 4D012CE03 , 4D012CF10 , 4D012CH10 , 4G066AA04B , 4G066AA11B , 4G066AA20B , 4G066AA22B , 4G066AA23B , 4G066AA61B , 4G066BA02 , 4G066BA03 , 4G066BA23 , 4G066BA26 , 4G066CA35 , 4G066CA37 , 4G066CA43 , 4G066CA45 , 4G066CA51 , 4G066CA56 , 4G066DA05 , 4G066DA07 , 4G066EA20

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第5,409,526号明細書
米国特許第5,980,608号明細書

審査官引用 (9件)

乾式除害装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-166799 出願人：荏原インフィルコ株式会社, 株式会社荏原製作所, 株式会社荏原総合研究所
ガス吸着分離装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-129014 出願人：三菱油化エンジニアリング株式会社
不活性ガス中の微量不純ガス成分の除去方法および除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-087666 出願人：大陽酸素株式会社

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