特許
J-GLOBAL ID:200903081533861577

周期的微細凹凸構造材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 三枝 英二 ,  斎藤 健治 ,  中野 睦子 ,  林 雅仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-270049
公開番号(公開出願番号):特開2009-096081
出願日: 2007年10月17日
公開日(公表日): 2009年05月07日
要約:
【課題】サブミクロンサイズからミクロンサイズの周期性を有する高アスペクト比の微細凹凸構造材料を、非常に単純な方法でかつ広範囲に形成する。【解決手段】基板(D)の少なくとも一部又は全体を少なくとも一軸方向に延伸(F)された状態の基板(D)上に表層(E)を形成し、基板(D)の延伸状態を解除したときに発生する圧縮歪みに基づき形成された凹凸構造を有し、前記凹凸構造のアスペクト比が0.2〜1.0の範囲にある、微細凹凸構造材料。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基板(D)の少なくとも一部又は全体を少なくとも一軸方向に延伸(F)された状態の基板(D)上に表層(E)を形成し、基板(D)の延伸状態を解除したときに発生する圧縮歪みに基づき形成された凹凸構造を有し、前記凹凸構造のアスペクト比が0.2〜1.0の範囲にある、微細凹凸構造材料。
IPC (4件):
B29C 61/02 ,  B32B 33/00 ,  G02B 5/18 ,  B29C 55/04
FI (4件):
B29C61/02 ,  B32B33/00 ,  G02B5/18 ,  B29C55/04
Fターム (35件):
2H049AA02 ,  2H049AA31 ,  2H049AA43 ,  2H249AA02 ,  2H249AA31 ,  2H249AA43 ,  4F100AB25 ,  4F100AK52 ,  4F100AN02 ,  4F100AT00A ,  4F100AT00B ,  4F100BA26 ,  4F100DD07B ,  4F100EH66 ,  4F100EJ37A ,  4F100JK07A ,  4F100JK07B ,  4F100JN06 ,  4F100JN30 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F210AG03 ,  4F210AG05 ,  4F210AR12 ,  4F210AR20 ,  4F210QC01 ,  4F210QD25 ,  4F210QG15 ,  4F210QG18 ,  4F210RA01 ,  4F210RC02 ,  4F210RG02 ,  4F210RG09 ,  4F210RG31 ,  4F210RG43
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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