特許
J-GLOBAL ID：200903028127810351
パターンの形成方法及びモールドの製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-075053
公開番号（公開出願番号）：特開2007-245318
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】 所望のパターンを精度よく形成する方法が求められていた。【解決手段】 そこで、本発明は、伸縮可能な基板を用いたパターン形成方法において、基板に変位量検出用マークを有しており、該変位量検出用マーク位置を検出する工程と、該基板表面にパターンを形成する工程と、該パターンを付与した基板を延伸または収縮する工程とから成るパターン形成方法を提供するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
伸縮可能な基板を用いたパターン形成方法において、
基板に変位量検出用マークを有しており、該変位量検出用マーク位置を検出する工程と、該基板表面にパターンを形成する工程と、
該パターンを付与した基板を延伸または収縮する工程とから成ることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
B81C 5/00
, H01L 21/027
, C25D 1/00
B81C5/00
, H01L21/30 502D
, C25D1/00 381
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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