特許
J-GLOBAL ID:200903081546229179

コンタクト及びそれを用いたコネクタ、並びにコンタクトの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 池田 憲保 ,  山本 格介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-011745
公開番号(公開出願番号):特開2006-202569
出願日: 2005年01月19日
公開日(公表日): 2006年08月03日
要約:
【課題】充分な耐摩耗性及び高潤滑性を持つ品質高いコンタクトを提供する。【解決手段】酸化処理を施してから表面に凹部を形成した上で潤滑剤を塗布した実施例1の試料(基材を加熱により酸化処理して酸化物層が形成されたものを所定の水素イオン濃度に調整された酸性フッ化アンモニウム溶液に浸して表面に微小な複数の凹部の核を形成した後、基材の表面に下地用金属及び凹部,接触用金属のメッキ層を形成してから潤滑剤を塗布して各凹部内に滞留保持させたコンタクト)では、摺動回数が2万回であっても低い動摩擦係数を維持しており、安定した潤滑効果が発揮されるが、酸化処理を施さずに潤滑剤を塗布していない比較例1の試料では動摩擦係数が摺動後にすぐに急上昇し、比較例2のように潤滑剤が塗布された試料でも酸化処理を施さずに表面に凹部を持たない場合には摺動回数が7千回を超えると動摩擦係数が上昇して潤滑効果を示さなくなる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
相手側電気接触部材との接続に供される接触部を備えた所定形状のコンタクトにおいて、少なくとも前記接触部を含む一部分又は全体の表面には微小な複数の凹部が形成され、前記複数の凹部には流動性を有する潤滑剤,固体潤滑性微粒子,固体潤滑性微粒子を含む潤滑剤の何れか一つによる潤滑物質が滞留保持されたことを特徴とするコンタクト。
IPC (7件):
H01R 13/03 ,  C23C 28/00 ,  C25D 5/10 ,  C25D 5/34 ,  C25D 5/48 ,  C25D 7/00 ,  H01R 43/16
FI (8件):
H01R13/03 Z ,  H01R13/03 D ,  C23C28/00 A ,  C25D5/10 ,  C25D5/34 ,  C25D5/48 ,  C25D7/00 H ,  H01R43/16
Fターム (23件):
4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AA11 ,  4K024AA14 ,  4K024AB02 ,  4K024AB17 ,  4K024BA09 ,  4K024BB10 ,  4K024CA02 ,  4K024CA06 ,  4K024DA10 ,  4K024DB10 ,  4K044AA06 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BB03 ,  4K044BC01 ,  4K044CA04 ,  4K044CA15 ,  4K044CA18 ,  4K044CA64 ,  5E063GA07 ,  5E063GA08
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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