特許
J-GLOBAL ID：200903081608841330

酸化膜形成方法とその装置

発明者：
戸坂 亜希

戸坂 亜希 について

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西口 哲也

西口 哲也 について

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一村 信吾

一村 信吾 について

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野中 秀彦

野中 秀彦 について


出願人/特許権者：
株式会社明電舎

株式会社明電舎 について

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独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


代理人 (2件)： 橋本 剛 ,  鵜澤 英久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-314994
公開番号（公開出願番号）：特開2006-270040
出願日： 2005年10月28日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】基板とこの基板に形成される酸化膜との間に界面バッファー層として働く高品質な酸化膜を形成すること。【解決手段】所定の波長のレーザー光をパルス発振可能な光源141と、基板10が格納される反応炉11と、反応炉11内において所定の雰囲気を構成させるガスを導入するための導入管12と、反応炉11内のガスを排出するための排出管13と、所定の波長でパルス発振されたレーザー光を導入する石英窓14と、反応炉11内において基板10を移動可能に支持する移動手段15と、基板10を加熱するための赤外線を導入する石英窓16とを備え、光源141は158nmより長い波長でパルス発振し、前記雰囲気は10-20cm2以上の吸収断面積を有すると共に前記レーザー光の光吸収反応によって励起状態の酸素原子が0.5以上の収率で発生するガス分子からなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の雰囲気のもとで所定の波長でパルス発振されたレーザー光を基板に照射して前記基板に酸化膜を形成させる酸化膜形成方法において、 前記レーザー光を照射する光源は158nmより長い波長でパルス発振すること、前記雰囲気は10-20cm2以上の吸収断面積を有すると共に前記レーザー光の光吸収反応によって励起状態の酸素原子が0.5以上の収率で発生するガス分子からなること を特徴とする酸化膜形成方法。
IPC (1件)：
H01L 21/316
FI (1件)：
H01L21/316 A
Fターム (3件)：
5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BF77
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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