特許
J-GLOBAL ID：200903081756680922
パターン状無機質焼成被膜及びプラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲吉▼田 繁喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-316644
公開番号（公開出願番号）：特開平11-144619
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 導電性膜や絶縁(非導電)性膜のパターニングされた被膜を製造する際に焼成工程を含む方法、特にPDPの製造方法において、反りや線幅収縮、あるいはさらに断線を生じることなくパターン状無機質焼成被膜を製造する。【解決手段】 基板11上に形成された熱分解性バインダーと無機質材料粒子を含む組成物のパターニングされた被膜12を焼成してパターン状無機質焼成被膜15を製造する方法において、上記焼成工程に先立って、上記熱分解性バインダーが熱分解する温度より低い温度で硬化又は乾燥でき、かつ焼成プロファイルの最高点温度以下で焼失する熱分解性樹脂組成物のコーティング膜14により上記被膜を被覆し、その後上記焼成工程を行う。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された熱分解性バインダーと無機質材料粒子を含む組成物のパターニングされた被膜を焼成してパターン状無機質焼成被膜を製造する方法において、上記焼成工程に先立って、上記熱分解性バインダーが熱分解する温度より低い温度で硬化又は乾燥でき、かつ焼成プロファイルの最高点温度以下で焼失する熱分解性樹脂組成物のコーティング膜により上記被膜を被覆し、その後上記焼成工程を行うことを特徴とするパターン状無機質焼成被膜の製造方法。
IPC (7件)：
H01J 9/24
, B32B 31/26
, C04B 41/87
, H01J 9/02
, H01J 9/227
, H01J 17/16
, C23C 14/02
H01J 9/24 A
, B32B 31/26
, C04B 41/87 B
, H01J 9/02 F
, H01J 9/227 E
, H01J 17/16
, C23C 14/02 Z
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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