特許
J-GLOBAL ID：200903081783002618
マスクレスリソグラフィシステム及びマスクレスリソグラフィにおけるドーズ制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-162318
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363598
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】マスクレスリソグラフィシステムにおいて、基板のただ1つのパスの間に各パターンに対して基板における所望の全ての領域を露光できるドーズ制御方法を提供する。【解決手段】マスクレスリソグラフィシステム100は照明システム102と、対象と、空間光変調器(SLM)104と、制御装置116を有しており、照明システム102からの光をパターニングするSLM104に対し、制御装置116は、光パルス期間情報、SLM104に関する物理的レイアウト情報、及び対象のスキャニングスピードのうちの少なくとも1つに基づいて制御信号を送信する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクレスリソグラフィシステムであって、
照明システムと;
対象と;
空間光変調器(SLM)と;
制御装置を有しており、
前記空間光変調器は、光が対象によって受光される前に、前記照明システムからの光をパターニングし、
前記SLMは、SLMの先行組とSLMの追従組を含み、
当該先行組及び追従組内のSLMは、前記対象のスキャン方向に基づいて変化し、
前記制御装置は、光パルス期間情報、SLMに関する物理的レイアウト情報、及び対象のスキャニングスピードのうちの少なくとも1つに基づいて制御信号をSLMに送信する、
ことを特徴とするマスクレスリソグラフィシステム。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G02F1/13
, G03F7/20
H01L21/30 529
, G02F1/13 505
, G03F7/20 521
2H088EA39
, 2H088HA10
, 2H088HA28
, 2H088MA20
, 5F046BA07
, 5F046CB17
, 5F046CB18
, 5F046DA01
