特許
J-GLOBAL ID:200903081819335511

半導体製造装置及び製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-254801
公開番号(公開出願番号):特開2001-077454
出願日: 1999年09月08日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】半導体素子又は半導体レーザを安定した状態で搬送又は整列させ、且つその作業性を向上させる。【解決手段】コレット装置10の吸着コレット11は、その先端の吸着面11aが水平面に対して傾斜しており、この吸着コレット11によりレーザバーが傾斜した状態で吸着・搬送される。ホルダ装置20のホルダ28は、図の左右方向にスライド可能な一対の保持板62,63と、図の上下方向にスライド可能な一対の保持板64,65とを有する。左右の保持板62,63に設けられた段差部にレーザバーが横並びの状態で載置される。ホルダ28は水平面に対して傾斜している。この傾斜角は、積載した状態のレーザバーが倒れず、且つ自重で高さ合わせが可能な角度であればよい。トレイ31は、コレット吸着面11aやホルダ28の傾斜角に応じて傾斜角度が調整される。
請求項(抜粋):
半導体素子をホルダに整列させる機構を有する半導体製造装置において、前記ホルダは、半導体素子を横並びの状態で載置するための第1の載置面と、その第1の載置面に垂直に設けられる第2の載置面とを有し、前記第1の載置面が水平面に対して傾いていることを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件):
H01S 5/022 ,  H01L 21/68
FI (3件):
H01S 5/022 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 E
Fターム (6件):
5F031DA05 ,  5F031FA02 ,  5F031GA23 ,  5F031KA17 ,  5F031KA20 ,  5F073DA35
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る