特許
J-GLOBAL ID：200903081850696492

プラズマ処理装置及び可変パワー分配器

発明者：
ガナシェフ イヴァン ペトロフ

ガナシェフ イヴァン ペトロフ について

, 
山華 雅司

山華 雅司 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について

, 
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 木内 光春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-160858
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006162
出願日： 2002年05月31日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】処理室内の構造を変えず、低コストで、プラズマ、処理速度空間分布制御を実現できるプラズマ処理装置及び可変パワー分配器を提供する。【解決手段】処理室1、二重導波管2、マイクロ波発生器3、可変パワー分配器4、自動インピーダンスチューナ5等を備える。処理室1の上部に、マイクロ波を導入するための中心窓7及び周辺窓8を設ける。可変パワー分配器4に設けられた中心経路4b及び周辺経路4cに、それぞれを開閉する第1の開閉部材4d及び第2の開閉部材4eを設ける。第1の開閉部材4d及び第2の開閉部材4eを移動させることにより、中心経路4b、内管2aを通過して中心窓7から処理室1内へ供給されるマイクロ波パワーと、周辺経路4c、外管2bを通過して周辺窓8から処理室1内へ供給されるマイクロ波パワーとの比を制御することによって、処理室1内のプラズマ、処理速度空間分布を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理物が収容可能で且つマイクロ波を導入する窓を有する処理室と、プラズマ発生用のマイクロ波を前記窓を介して前記処理室内へ導入させる導波体とを備えたプラズマ処理装置において、 前記窓は複数設けられ、 前記導波体は前記複数の窓へ供給するマイクロ波のパワーを、前記窓に応じて分配制御する可変パワー分配器を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H1/46 ,  B01J19/08 ,  H01L21/3065
FI (3件)：
H05H1/46 B ,  B01J19/08 E ,  H01L21/302 101D
Fターム (20件)：
4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC07 ,  4G075EC25 ,  4G075ED20 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB14 ,  5F004BD01
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (14件)
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