特許
J-GLOBAL ID：200903081914062190

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法

発明者：
加藤木 茂樹

加藤木 茂樹 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-221579
公開番号（公開出願番号）：特開2003-035949
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：
【要約】【課題】 低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供。【解決手段】(a)活性光線の照射により塩基を発生するアミンイミド化合物、(b)ポリアミド酸を含有してなる感光性樹脂組成物。前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、50〜180°Cで加熱した後、未照射部を現像除去するレリーフパターンの製造方法。上記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線を全面に照射し、80〜300°Cで加熱する耐熱性塗膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
(a)活性光線の照射により塩基を発生するアミンイミド化合物、(b)ポリアミド酸を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/004 503 ,  C08G 73/10
FI (2件)：
G03F 7/004 503 B ,  C08G 73/10
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025CA00 ,  2H025CA03 ,  2H025CA09 ,  2H025CA27 ,  2H025CB25 ,  2H025FA29 ,  4J043PA02 ,  4J043QB31 ,  4J043XA13 ,  4J043XA16 ,  4J043XB16 ,  4J043XB19 ,  4J043XB28 ,  4J043ZB22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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