有機系レジスト剥離液の水分濃度管理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-064312
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258925
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】有機系レジスト剥離液を使用してレジスト膜を除去する処理を行う際のランニングコストの増大を抑制することができるとともに、処理に使用した有機系レジスト剥離液を大量に廃棄する必要のないようにして環境へ悪影響を与える恐れを極力排除する。【解決手段】レジスト膜を除去する処理に使用する有機系レジスト剥離液の水分濃度を管理する有機系レジスト剥離液の水分濃度管理装置であって、レジスト膜を除去する処理に使用する有機系レジスト剥離液の水分濃度を測定する水分濃度測定手段と、水分濃度測定手段の測定結果に基づいて、処理に使用する有機系レジスト剥離液に対して水分を供給する水分供給手段と、水分濃度測定手段の測定結果に基づいて、処理に使用する有機系レジスト剥離液に対して有機系レジスト剥離液の新液を供給する有機系レジスト剥離液供給手段とを有する。

請求項（抜粋）：

レジスト膜を除去する処理に使用する有機系レジスト剥離液の水分濃度を管理する有機系レジスト剥離液の水分濃度管理装置であって、レジスト膜を除去する処理に使用する有機系レジスト剥離液の水分濃度を測定する水分濃度測定手段と、前記水分濃度測定手段の測定結果に基づいて、前記処理に使用する有機系レジスト剥離液に対して水分を供給する水分供給手段と、前記水分濃度測定手段の測定結果に基づいて、前記処理に使用する有機系レジスト剥離液に対して有機系レジスト剥離液の新液を供給する有機系レジスト剥離液供給手段とを有する有機系レジスト剥離液の水分濃度管理装置。

IPC (3件)：

G03F 7/42 , H01L 21/027 , H01L 21/306

FI (3件)：

G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B , H01L 21/306 D

Fターム (16件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 5F043BB27 , 5F043CC16 , 5F043DD07 , 5F043EE12 , 5F043EE23 , 5F043EE24 , 5F043EE27 , 5F043EE29 , 5F043EE40 , 5F043GG10 , 5F046MA02 , 5F046MA06

引用特許：

審査官引用 (8件)

レジスト剥離液管理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-193005 出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
フォトレジスト剥離液
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-329872 出願人：富士フイルムオーリン株式会社
レジスト用剥離液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-276504 出願人：東京応化工業株式会社

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