特許
J-GLOBAL ID：200903098681991595
レジスト剥離液管理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-311403
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133630
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造工程や液晶基板製造工程においてレジスト剥離に用いられるレジスト剥離液の管理装置であって、レジスト剥離液品質を一定に制御し、かつ、液使用量の削減、操業停止時間の減少及びコストの低減を図る。【解決手段】 レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計16により検出してレジスト剥離原液、ヒドロキシルアミン溶液、純水及び予め調合したレジスト剥離新液の少なくとも一つを補給するレジスト濃度検出・液補給手段と、レジスト剥離液のヒドロキシルアミン濃度を吸光光度計15により検出してレジスト剥離原液、ヒドロキシルアミン溶液及び純水の少なくとも一つを補給するヒドロキシルアミン濃度検出・液補給手段とを備えるように構成する。
請求項（抜粋）：
レジスト剥離原液、ヒドロキシルアミン溶液、純水及び予め調合したレジスト剥離新液の少なくとも一つをレジスト剥離処理槽に供給して液面調節機構により一定液面レベルに保つ液面調節・液補給手段と、このレジスト剥離処理槽内のレジスト剥離液のヒドロキシルアミン濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離原液、ヒドロキシルアミン溶液及び純水の少なくとも一つをレジスト剥離処理槽に補給するヒドロキシルアミン濃度検出・液補給手段とを備えたことを特徴とするレジスト剥離液管理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
