特許
J-GLOBAL ID：200903081971881114

有機高分子膜形成用の前駆体溶液及び有機高分子膜の形成方法

発明者：
青井 信雄

青井 信雄 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (6件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  原田 智雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-106879
公開番号（公開出願番号）：特開2005-290192
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 比誘電率が低く機械的強度及び密着性の高い有機高分子膜を形成するため、均一且つ微細な分子サイズの空孔を有すると共に高架橋密度である有機高分子膜を形成することができる前駆体溶液と、該前駆体溶液を用いた有機高分子膜の形成方法を提供する。 【解決手段】 本発明の有機高分子膜の前駆体溶液は、ルイス酸である第1のモノマーAと、第1のモノマーとルイス酸塩基反応するルイス塩基である第2のモノマーBと、極性基を有する犠牲有機分子Cとを含む。該前駆体溶液を用いて有機高分子膜を形成するには、基板上に塗布した前駆体溶液の内部において、第1のモノマーAと第2のモノマーBとに犠牲有機分子Cを内包する超分子構造を形成させる。次に、第1のモノマーAと第2のモノマーBとを共重合させた後に、犠牲有機分子Cを除去して空孔を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ルイス酸である第1のモノマーと、 前記第1のモノマーとルイス酸塩基反応を生じるルイス塩基である第2のモノマーと、 極性基を有する犠牲有機分子とを含むことを特徴とする有機高分子膜形成用の前駆体溶液。
IPC (3件)：
C08G85/00 ,  H01B3/30 ,  H01L21/312
FI (3件)：
C08G85/00 ,  H01B3/30 M ,  H01L21/312 A
Fターム (18件)：
4J031CA06 ,  4J031CA34 ,  4J031CA66 ,  4J031CA77 ,  5F058AA10 ,  5F058AC02 ,  5F058AC10 ,  5F058AD04 ,  5F058AD09 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5G305AA07 ,  5G305AA11 ,  5G305AB10 ,  5G305AB15 ,  5G305BA09 ,  5G305DA22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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