特許
J-GLOBAL ID:200903082085615728

クリーニング装置、クリーニング方法、露光装置、及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-148048
公開番号(公開出願番号):特開2008-300775
出願日: 2007年06月04日
公開日(公表日): 2008年12月11日
要約:
【課題】基板の周辺に配置される部材の表面を良好にクリーニングできるクリーニング装置を提供する。【解決手段】クリーニング装置は、露光対象の基板を保持する保持部の周囲の少なくとも一部に設けられた所定面をクリーニングする。クリーニング装置は、所定面を研磨する研磨装置を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
露光対象の基板を保持する保持部の周囲の少なくとも一部に設けられた所定面をクリーニングするためのクリーニング装置であって、 前記所定面を研磨する研磨装置を備えたクリーニング装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件):
H01L21/30 503C ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (5件):
5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA14 ,  5F046DA27
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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