特許
J-GLOBAL ID：200903082273984935
荷電粒子線露光装置用マスク,アライメント方法および荷電粒子線露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-196699
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040486
出願日： 1997年07月23日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 大面積のマスクを容易に作製することができ、マスク製作のコストアップおよびマスク精度の低下を抑えることができる荷電粒子線露光装置用マスクの提供。【解決手段】 マスクパターンを複数の分割パターン(それぞれ領域d1,d2に含まれるパターン)に分割し、分割パターン毎に異なる基板S1,S2に形成して成る複数の分割マスク11a,11bを同一の枠12に固定し、これをマスクとして用いる。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線露光装置に用いられるマスクであって、マスクパターンを複数の分割パターンに分割し、前記分割パターン毎に異なる基板に形成して成る複数の分割マスクを同一の保持部材に固定したことを特徴とするマスク。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 502 P
