特許
J-GLOBAL ID：200903082388789346
研磨方法及び装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-357216
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159636
出願日： 2001年11月22日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：
【要約】【課題】 位置によって単位研磨除去量が異なる結晶材料からなるワークを所望の形状に研磨することができる研磨方法及び装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。【解決手段】 研磨工具を被加工物に対し走査移動させて被加工物を所望の面形状に研磨する研磨方法であって、等速及び等圧で研磨工具を走査移動させて被加工物を均等研磨するステップと、その均等研磨ステップで研磨されるべき研磨量とその均等研磨ステップで実際に研磨される研磨量との差分を算出し、その差分値を前記加工面の各位置における研磨量の補正値として算出するステップと、その補正値に基づき均等研磨ステップで研磨された被加工物の面形状が所望の面形状となるように研磨するための加工プログラムを作成するステップと、加工プログラムにより研磨工具を制御し、均等研磨ステップで研磨された被加工物を研磨するステップとを有する研磨方法を提供する。
請求項（抜粋）：
結晶材料からなるワークを、当該ワークに対して十分小さな工具を利用して等速及び等圧で均等に研磨した場合の除去量は等しいという前提の下で前記除去量に応じて前記工具の前記ワーク上の滞留時間を制御する方式を利用して前記ワークを所望の面形状に研磨する方法であって、等速及び等圧で前記工具を走査移動させて前記ワークを均等に研磨するステップと、前記均等研磨ステップで研磨されるべき研磨量と前記均等研磨ステップで実際に研磨された研磨量との差分を算出し、当該差分値を前記ワークの各位置における、前記均等研磨ステップで研磨されるべき研磨量の補正値として算出するステップと、前記補正値に基づいて前記滞留時間を修正して前記ワークを研磨するステップとを有する研磨方法。
IPC (3件)：
B24B 1/00
, B24B 13/00
, H01L 21/027
B24B 1/00 B
, B24B 13/00 Z
, H01L 21/30 515 D
3C049AA02
, 3C049BB06
, 3C049BB08
, 3C049BB09
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB12
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (3件)
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