特許
J-GLOBAL ID：200903082433949503

メソポーラスシリカ粒子の製造方法

発明者：
細川 浩司

細川 浩司 について

, 
矢野 聡宏

矢野 聡宏 について

, 
山下 理紗子

山下 理紗子 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (4件)： 大谷 保 ,  東平 正道 ,  片岡 誠 ,  平澤 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-118920
公開番号（公開出願番号）：特開2009-269767
出願日： 2008年04月30日
公開日（公表日）： 2009年11月19日
要約：
【課題】1.4nm未満のメソ細孔を有するメソポーラスシリカ粒子の簡便な製造方法、及び香料を保持した複合メソポーラスシリカ粒子を提供する。【解決手段】(1)メソポーラスシリカ(A)とテトラアルコキシシラン等の珪素化合物(B)を液相反応させる工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法、及び(2)得られたメソポーラスシリカ粒子の内部に香料を保持してなる複合メソポーラスシリカ粒子である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
メソポーラスシリカ(A)と下記一般式(I)で表される珪素化合物(B)を液相反応させる工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 37/00 ,  B01J 13/20
FI (2件)：
C01B37/00 ,  B01J13/02 K
Fターム (33件)：
4G005AA02 ,  4G005AB03 ,  4G005AB06 ,  4G005AB13 ,  4G005AB14 ,  4G005AB25 ,  4G005BA17 ,  4G005BB25 ,  4G005DA05W ,  4G005DA05Y ,  4G005DA05Z ,  4G005DE08Z ,  4G005EA05 ,  4G073BB13 ,  4G073BB24 ,  4G073BB57 ,  4G073BB58 ,  4G073BD16 ,  4G073BD21 ,  4G073BD23 ,  4G073CZ53 ,  4G073FB30 ,  4G073FB41 ,  4G073FB42 ,  4G073FC18 ,  4G073FC30 ,  4G073FF05 ,  4G073GA03 ,  4G073GA11 ,  4G073GA12 ,  4G073GA13 ,  4G073GB02 ,  4G073UB28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (12件)
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