メソポーラスシリカ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：大谷保 , 東平正道 , 片岡誠 , 平澤賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-027901
公開番号（公開出願番号）：特開2006-347866
出願日： 2006年02月06日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】細孔径が小さく、かつ規則性の高い細孔構造を有するメソポーラスシリカ、及びその効率的な製造方法を提供する。【解決手段】ヘキサゴナル構造を有し、粉末X線回折(XRD)における(1,0,0)面の面間隔が2〜3nm以下の範囲にあるメソポーラスシリカ、並びに、(a)一般式(1) [R1(CH3)3N]+Cl- (1) 及び一般式(2) [R1R2(CH3)2N]+Cl- (2)(式中、R1及びR2は、炭素数4〜8のアルキル基を示す。)で表される第四級アンモニウム塩と、シリカ源を含むシリカ源含有第四級アンモニウム塩水溶液を調製する工程、(b)この水溶液を加熱処理して、第四級アンモニウム塩とシリカ源との複合体を析出させる工程、及び(c)該複合体を焼成処理し、第四級アンモニウム塩を除去する工程、を含む前記メソポーラスシリカの製造方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ヘキサゴナル構造を有し、粉末X線回折(XRD)における(1,0,0)面の面間隔が2〜3nmの範囲にあるメソポーラスシリカ。

IPC (1件)：

C01B 37/02

FI (1件)：

C01B37/02

Fターム (8件)：

4G073CZ54 , 4G073FB01 , 4G073FC19 , 4G073FC25 , 4G073FD23 , 4G073GA03 , 4G073GA12 , 4G073GB10

引用特許：

出願人引用 (2件)

メソポーラスシリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-074912 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
メソポーラスシリカおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-220190 出願人：日本化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

微細孔を有する三次元高規則性ナノポーラス無機多孔体及びその製造方法並びにその評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-143808 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社バイオ・ナノテック・リサーチ・インスティチュート
クラスター包接材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-262668 出願人：株式会社豊田中央研究所
親水性ナノ多孔材料及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-288341 出願人：株式会社荏原製作所

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