特許
J-GLOBAL ID：200903029908659493
中空シリカゾル及び中空シリカ微粒子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 宏義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-169620
公開番号（公開出願番号）：特開2006-342023
出願日： 2005年06月09日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：
【課題】反射防止膜などの光学用途において透明性と低屈折率特性に優れており、また電子材料などの用途において低誘電率エナメル成分、塗料成分、ドープ成分及び添加剤などに対しても有用である中空シリカゾル及び中空シリカ微粒子を提供すること。【解決手段】本発明の中空シリカゾル及び中空シリカ微粒子は、主成分がケイ素酸化物であり、非晶質であり、ナノサイズの細孔を有する実質的に中空なシリカ微粒子を含むことを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
主成分がケイ素酸化物であり、非晶質であり、ナノサイズの細孔を有する実質的に中空なシリカ微粒子を含むことを特徴とする中空シリカゾル。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
4G072AA25
, 4G072AA28
, 4G072CC01
, 4G072CC02
, 4G072DD08
, 4G072DD09
, 4G072GG01
, 4G072HH21
, 4G072JJ30
, 4G072PP01
, 4G072PP02
, 4G072PP11
, 4G072QQ20
, 4G072TT01
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072UU30
