特許

J-GLOBAL ID：200903082445289339

イオンビーム装置

発明者： 工 藤 政 都
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034258
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231886
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 フィラメントの消耗を最小限に抑えることができるイオンビーム装置を提供すること。【解決手段】 試料分析の時に試料にイオンビームが照射されないように、CPU21は、イオン加速電圧オフの信号をイオン加速電源制御部15に送る。この信号を受けたイオン加速電源制御部15は、イオン加速電圧が0Vになるようにイオン加速電源13を制御する。さらに、CPU21は、エミッション電流量を例えば0.5mAとするための制御信号をエミッション電流量制御部11に送る。試料のイオンエッチング時のエミッション電流量は通常20〜30mA程度に設定されるが、この0.5mAという値は、それに比べるとかなり低い値であり、フィラメントの蒸発量は従来よりかなり少なくなる。

請求項（抜粋）：

フィラメントで発生した電子をガスに照射することによりガスをイオン化し、イオン引出手段に加速電圧を印加してイオンをイオン銃から取り出すように構成したイオンビーム装置において、前記加速電圧が印加されていない時のエミッション電流量が、加速電圧が印加されている時のエミッション電流量より少なくなるように、前記フィラメントが加熱制御されることを特徴とするイオンビーム装置。

IPC (4件)：

H01J 27/20 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  G01N 23/225

FI (4件)：

H01J 27/20 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  G01N 23/225

Fターム (20件)：

2G001AA03 ,  2G001BA09 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA11 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA11 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001MA01 ,  2G001PA07 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA05 ,  5C030DD04 ,  5C030DD05 ,  5C030DE09 ,  5C030DG07

引用特許：

出願人引用 (5件)

• イオン電流密度の安定化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-036678   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• イオン源制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-129579   出願人：日新電機株式会社
• 特開昭63-040236
  
• 特開昭64-059746
  
• イオン源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-268278   出願人：日新電機株式会社

審査官引用 (4件)

• イオン電流密度の安定化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-036678   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• イオン源制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-129579   出願人：日新電機株式会社
• 特開昭63-040236
  
• 特開昭64-059746