屈折率制御方法および周期性構造物並びに光学素子

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-375622
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177201
出願日： 2001年12月10日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】屈折率の非周期性が任意に制御できる周期性構造物の屈折率制御方法と、屈折率の非周期性が任意に制御が可能な周期性構造物、並びにその周期性構造物を用い、屈折率の変化を任意に行えるばかりでなく、その屈折率の変化を保持することができ、さらに可逆的に消失することも可能な光学素子を提案する。【解決手段】光学基材1中あるいは光学基材1上に光学媒質を周期的に配列させることによりなる周期性構造物6の屈折率を制御する方法に関し、前記周期性構造物6に磁場を印加する工程を具備せしめる。

請求項（抜粋）：

光学基材中あるいは光学基材上に光学媒質を周期的に配列させることによりなる周期性構造物の屈折率を制御する方法において、前記周期性構造物に磁場を印加する工程を具備したことを特徴とする周期性構造物の屈折率制御方法。

IPC (3件)：

G02B 1/02 , G02B 6/12 , G02F 1/095

FI (4件)：

G02B 1/02 , G02F 1/095 , G02B 6/12 Z , G02B 6/12 N

Fターム (10件)：

2H047KA03 , 2H047QA04 , 2H079AA03 , 2H079AA06 , 2H079AA13 , 2H079BA01 , 2H079DA12 , 2H079EA00 , 2H079EB18 , 2H079EB27

引用特許：

審査官引用 (10件)

光磁気記録媒体及びその再生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-320209 出願人：日立マクセル株式会社
特開昭64-077033
特開昭63-285742

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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