露光用マスクとその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-320222
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143989
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】効率のよい転写を実現するための露光用マスクとその製造方法を提供する。【解決手段】電子ビーム露光に使用されるブロック露光用マスク22であって、機能ブロックに対応するパターンを有した開口部13を備えたことを特徴とするブロック露光用マスク22を提供する。

請求項（抜粋）：

電子ビーム露光に使用される露光用マスクであって、機能ブロックに対応するパターンを有した開口部を備えたことを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (2件)：

G03F 1/16 B , H01L 21/30 541 S

Fターム (6件)：

2H095BA08 , 2H095BB02 , 5F056AA06 , 5F056AA22 , 5F056EA04 , 5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (8件)

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