特許
J-GLOBAL ID：200903082812715927

露光装置およびこれを用いた露光方法

発明者：
土道 淳一

土道 淳一 について


出願人/特許権者：
株式会社アドバンスト・ディスプレイ

株式会社アドバンスト・ディスプレイ について


代理人 (1件)： 大岩 増雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-178870
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372789
出願日： 2001年06月13日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】【課題】 生産性を低下させることなくホトレジストが塗布された基板の表裏両面における塵埃の検出および除去を行うことができ、ホトレジストパターンにおいて再生処理を必要とする不良基板の発生を低減できると共に、パターン形成における歩留まりを向上できる露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】 露光処理を施す前に、基板7を塵埃検出機構部10に搬送し、基板7の表裏両側に設置された光出射口13から出射した帯状の光15を基板7の両面に同時に照射して、基板7の表裏両面における塵埃の付着を同時に検出する。塵埃が検出された基板7は塵埃除去機構部20に搬送され、イオン高圧気体流により塵埃を吹き飛ばすと共に吹き飛ばした塵埃を排出口22から吸引排出することにより、塵埃の除去処理を基板7の表裏両面に対して同時に施す。
請求項（抜粋）：
基板に塗布されたホトレジストにレチクル上のパターンを投影する露光装置において、露光処理前の上記ホトレジストが塗布された基板に付着している塵埃を上記基板の表裏両面に対して同時に検出する塵埃検出機構部を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 503 G
Fターム (6件)：
2H097BA04 ,  2H097GB01 ,  2H097LA12 ,  5F046AA28 ,  5F046DB11 ,  5F046DB14
引用特許：
審査官引用 (6件)
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