特許
J-GLOBAL ID：200903083098125556

フォトレジスト用アルカリ可溶性樹脂

発明者：
楠本 武宏

楠本 武宏 について

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中野 由子

中野 由子 について

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竹山 尚幹

竹山 尚幹 について

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植田 裕治

植田 裕治 について

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岡 裕美

岡 裕美 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004541
公開番号（公開出願番号）：特開2000-162773
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外線を光源とする露光領域において、感度や解像度などの諸性能に優れた化学増幅型フォトレジストとしうるアルカリ可溶性樹脂を提供する。【解決手段】 ポリビニルフェノール又は水素添加ポリビニルフェノールであって、水酸基が部分的にアルキルエーテル化されているフォトレジスト用アルカリ可溶性樹脂が提供される。このアルカリ可溶性樹脂は、光酸発生剤及び架橋剤と組み合わせて、ネガ型フォトレジストとなり、一方、光酸発生剤及び溶解阻止剤と組み合わせて、ポジ型フォトレジストとなる。特に、ネガ型フォトレジストに対して好適である。
請求項（抜粋）：
ポリビニルフェノール又は水素添加ポリビニルフェノールであって、水酸基が部分的にアルキルエーテル化されていることを特徴とするフォトレジスト用アルカリ可溶性樹脂。
IPC (8件)：
G03F 7/038 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F 8/04 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F 7/038 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F 8/04 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (18件)
  • 特開平4-215662
  • 特開平4-215662
  • 特開平3-107160
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