特許

J-GLOBAL ID：200903083114967864

洗浄装置

発明者： 蔭山 剛志 ,  谷 伸夫 ,  半山 竜一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-027847
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212528
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】CMP処理等の加工処理した後の基板の表裏面に付着した研磨屑等のパーティクルを除去する洗浄装置での洗浄効果を高める。【解決手段】ウェハWに洗浄処理を行う基板処理装置100であって、CMP装置200によりCMP処理されたウェハWを洗浄するための複数の処理部30,40,50へ基板Wを順次搬送する。処理部30では保持ハンド35aの本体部39上に保持用ローラ80(a〜c )と周縁部洗浄手段90が配置される。ウェハWは保持ハンド35aと同様の保持ハンド35bにより保持されると同時に周縁部洗浄手段90が洗浄位置に配置される。ウェハWの周縁部は洗浄具91のブラシ毛が周縁部の上方から移動して平面部と端面にかけて摺擦することにより洗浄される。

請求項（抜粋）：

薄板状の被処理体を保持して処理する洗浄装置において、被処理体の端面に沿って洗浄具が配置される周縁部洗浄手段と、前記周縁部洗浄手段の洗浄具を被処理体の周縁部において平面部上方から移動させて、平面部と端面にかけて洗浄具を摺擦して洗浄する駆動手段と、を具備したことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 644

FI (3件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 622 Q ,  H01L 21/304 644 C

Fターム (16件)：

3B116AA03 ,  3B116AB13 ,  3B116AB23 ,  3B116AB33 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BA34 ,  3B116BB24 ,  3B116BB32 ,  3B116BB43 ,  3B116BB55 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD41

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-217462   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-196683   出願人：株式会社荏原製作所

審査官引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-217462   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-196683   出願人：株式会社荏原製作所