プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用保護部材

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-124075
公開番号（公開出願番号）：特開平9-289198
出願日： 1996年04月22日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】寿命が長く、ダスト発生を少なくするプラズマ処理装置用保護部材を得る。【解決手段】 2個のプラズマ発生用電極(3,4)が配設され、これら両電極(3,4)間にプラズマ領域(5)が形成されるプラズマ処理室(2)内に、上記両電極(3,4)の両側方に上記プラズマ領域(5)を覆うように配設されるプラズマ処理装置用保護部材(8)において、この保護部材(8)の少なくとも上記プラズマ領域側表面をガラス状カーボンにて形成する。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生用電極が配設されたプラズマ処理室を有するプラズマ処理装置において、上記プラズマ処理室内の上記電極以外のプラズマに曝される部分の少なくとも表面をガラス状カーボンにて形成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/44 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/302 B , C23C 16/44 H , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (6件)

エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-266156 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-209781
真空処理装置用素材及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-197205 出願人：東京エレクトロン株式会社

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