特許
J-GLOBAL ID：200903083444597192
真空処理装置及びその運転方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-061894
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332083
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】複数の処理室で試料処理を並列に行なう運用において、真空処理装置全体の試料処理の効率向上を図った真空処理装置及びその運転方法を提供する。【解決手段】試料を収納する複数のカセット1〜3と、該試料を搬送する搬送手段4と、前記試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室8〜11と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室6およびアンロード室12と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段15とを備えた真空処理装置において、前記装置制御手段は、前記試料の搬送時間及び前記処理室での処理時間を計測し、該計測された時間に基づいて次に前記複数のカセットから前記試料を取り出す順番を決定する。
請求項（抜粋）：
試料を収納する複数のカセットと、該試料を搬送する搬送手段と、前記試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、前記装置制御手段は、前記試料の搬送時間及び前記処理室での処理時間を計測し、該計測された時間に基づいて次に前記複数のカセットから前記試料を取り出す順番を決定することを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H01L 21/68 A
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
