特許
J-GLOBAL ID：200903083547219587

レジスト除去用組成物

発明者：
原 靖

原 靖 について

, 
高橋 史治

高橋 史治 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068529
公開番号（公開出願番号）：特開2008-191631
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：
【課題】アミン系のレジスト除去用組成物では、レジスト剥離能力が十分でなく、溶媒、特に有機溶媒と反応して溶媒を分解しやすく、しかも半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージが大きかった。【解決手段】ポリ(シアノアルキル)エチレンアミンを含んでなるレジスト剥離剤を用いる。ポリ(シアノアルキル)エチレンアミンとして、N,N’-ビス(2-シアノエチル)-エチレンジアミン、N,N,N’-トリス(2-シアノエチル)エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラキス(2-シアノエチル)エチレンジアミン、N,N’-ビス(2-シアノエチル)ピペラジン、N,N'-ビス(2-シアノエチル)-N’'-(2-アミノエチル)ピペラジン、N,N',N'-トリス(2-シアノエチル)-N’'-(2-アミノエチル)ピペラジン等の1種以上を用いる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ポリ(シアノアルキル)エチレンアミンを含んでなるレジスト除去用組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304
FI (3件)：
G03F7/42 ,  H01L21/30 572B ,  H01L21/304 647A
Fターム (21件)：
2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F046MA02 ,  5F157AA42 ,  5F157AA93 ,  5F157AA94 ,  5F157AA95 ,  5F157BB66 ,  5F157BB73 ,  5F157BC03 ,  5F157BC12 ,  5F157BC55 ,  5F157BF12 ,  5F157BF23 ,  5F157BF32 ,  5F157BF38 ,  5F157CA03 ,  5F157DB19 ,  5F157DB57
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭62-49355号公報
  • 洗浄剤
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-320357   出願人：東ソー株式会社
審査官引用 (3件)

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